Cover Image

Perbedaan waktu difusi terhadap resistansi permukaan dan kedalaman sambungan dalam proses pembuatan transistor

Main Author: Food and Agriculture Organization
Format: TEXT
Language: LP 621.38.3 Fat p
Published: FAO
PINJAM
id unylib-72424
recordtype oai_dc
spelling unylib-724242016-08-08 00:00:00Universitas Negeri YogyakartaPerbedaan waktu difusi terhadap resistansi permukaan dan kedalaman sambungan dalam proses pembuatan transistorFood and Agriculture OrganizationFAOTEXTLP 621.38.3 Fat pLP 621.38.3 Fat p
institution Universitas Negeri Yogyakarta
collection Perpustakaan Yogyakarta
language LP 621.38.3 Fat p
description
format TEXT
author Food and Agriculture Organization
spellingShingle Food and Agriculture Organization
Perbedaan waktu difusi terhadap resistansi permukaan dan kedalaman sambungan dalam proses pembuatan transistor
author_sort Food and Agriculture Organization
title Perbedaan waktu difusi terhadap resistansi permukaan dan kedalaman sambungan dalam proses pembuatan transistor
title_short Perbedaan waktu difusi terhadap resistansi permukaan dan kedalaman sambungan dalam proses pembuatan transistor
title_full Perbedaan waktu difusi terhadap resistansi permukaan dan kedalaman sambungan dalam proses pembuatan transistor
title_fullStr Perbedaan waktu difusi terhadap resistansi permukaan dan kedalaman sambungan dalam proses pembuatan transistor
title_full_unstemmed Perbedaan waktu difusi terhadap resistansi permukaan dan kedalaman sambungan dalam proses pembuatan transistor
title_sort perbedaan waktu difusi terhadap resistansi permukaan dan kedalaman sambungan dalam proses pembuatan transistor
publisher FAO
publishDate
callnumber-raw LP 621.38.3 Fat p
callnumber-search LP 621.38.3 Fat p
_version_ 1556656162989932544
score 14.79448

Similar Items