Skip to content
Advanced
Advanced
  • Search
  • Fabrikasi dan karakterisasi la...
  • Holdings
  • Cite this
  • Text this
  • Email this
  • Export Record
    • Export to RefWorks
    • Export to EndNoteWeb
    • Export to EndNote
Cover Image

Fabrikasi dan karakterisasi lapisan I, P dan N A-µC-Si:H yang dideposisi dalam reaktor PECVD tunggal pada frekuensi 70 Mhz

Main Author: Atmadi, Aufridus
Format: Tesis
Language: Ind
Published: Institut Teknologi Bandung 1998
Subjects:
FABRICATION
Online Access: http://www.library.usd.ac.id//web/index.php?pilih=search&p=1&q=102472&go=Detail
PINJAM
  • Holdings
  • Description
  • Similar Items
  • Staff View

Internet

http://www.library.usd.ac.id//web/index.php?pilih=search&p=1&q=102472&go=Detail

Similar Items

  • Fabrikasi dan karakterisasi lapisan i, p dan n a-µc-Si:H yang dideposisi dalam reaktor PECVD tunggal pada frekuensi 70 MHz
    by: Atmadi, Aufridus
    Published: (1998)
  • Fabrikasi dan karakterisasi lapisan i,p dan na-Nc-si-b H yang didesposisi dalam reaktor PEOUD Tunggal pada frekuensi 70 MHZ
    by: Atmadi, Aufridus
    Published: (1998)
  • Pengukuran muatan elektron dengan metode milikan dan pengukuran rasio muatan elektron terhadap massanya dengan metode pembelokan sinar katode
    by: Atmadi, Aufridus
    Published: (1988)
  • Penumbuhan dan karakterisasi film tipis ZnO yang dideposisi dengan teknik spin coating di atas substrat silicon
    by: Andi Suhandi , Yuyu R. Tayubi
    Published: (2014)
  • Penumbuhan dan karakterisasi film tipis ZnO yang dideposisi dengan teknik spin coating di atas substrat silicon
    by: Andi Suhandi , Yuyu R. Tayubi
    Published: (2014)

Search Options

  • Search History
  • Advanced Search

Find More

  • Browse the Catalog
  • Browse Alphabetically
  • Course Reserves
  • New Items

Need Help?

  • Search Tips
  • Ask a Librarian
  • FAQs
Loading...